Laboratorio B15. Procesamiento y Caracterización de Nanopelículas (LPCN)
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Investigador Responsable: Edificio B: Laboratorio de Procesamiento y Caracterización de Nanopelículas Tel. Laboratorio: (442) 2119900 ext. 1515 |
Descripción del Laboratorio:
El LPCN cuenta con un conjunto de equipos ( ALD , Sputtering , horno tubular , RTA , plasma remoto , y un sistema de limpieza de obleas ) para el procesamiento de superficies y nanopelículas y con un equipo para su caracterización química y física ( XPS ). Un proceso típico de fabricación de un dispositivo MOS, e.g., Si\SiO2 \HfO2\La2 O3 \TiN, involucra cada uno de estos equipos: el sistema de limpieza para preparar el substrato semiconductor, el horno tubular para crecer una capa de óxido nativo, el sistema ALD para crecer una o varias capa de otros óxidos el sistema de plasma remoto para nitrurar el óxido, el Sputtering para crecer el metal (TiN), y el RTA para realizar el tratamiento térmico. Cada equipo cuenta con una caja de guantes, de manera que es posible transferir muestras de uno a otro, en un ambiente inerte.
De esta manera, dentro del LPCN se cuenta por un lado con acceso inmediato y autosuficiente para procesar nanopelículas de altísima calidad (calidad electrónica) y libre de contaminación y, por el otro, con las herramientas experimentales y analíticas para una caracterización física y química detallas de su estructura. Esta combinación de herramientas experimentales y de análisis ha permitido observar fenómenos tan sutiles como la difusión de pequeñas cantidades de materia, tal como el equivalente a una décima de una monocapa, a través de distancias tan cortas como uno o dos nanómetros.
También ha permitido caracterizar las capas interfaz que se forman al depositar un material sobre otro. Estas aplicaciones están descritas en la página de las Líneas de investigación.
Equipos
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Espectroscopia Fotoelectrónica por Rayos-X (XPS)
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Sputtering de Alta Pureza
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Servicios que ofrecen:
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